2020-03-14 14:07:32
随着科技的发展，手机逐渐成为我们生活中不可缺少的电子产品。
华为手机去年的销量达到了2.08亿部，是全球第三大智能手机厂商
超越苹果也只是时间问题。
很多人，更愿意将华为视为“国产品牌”，而小米oppo却没有这样的待遇，这是为什么呢？因为华为做成了一件其他厂商都没做到的事情——自研芯片。
华为高端机型，使用的都是其自研的海思麒麟芯片，低中端机型会使用高通、联发科的芯片
海思麒麟的性能到底怎么样呢 ？
从手机cpu性能天梯图上我们就能看到，苹果A12、高通骁龙855、三星猎户座9820三款处理器的性能处于顶尖，而海思麒麟则是紧跟其后，尽管还不是顶尖，但是华为能走到这一步确实不容易。
美国商务部将华为列为“实体清单”，宣布禁止美国企业出售给华为高科技产品
“禁令”一出很多美国企业纷纷停止与华为的业务，其中包括了高通、博通、谷歌、微软等企业，这是看准了我们国内“缺芯”的弱项。
华为海思总裁何庭波，半夜发布公开信表示“华为备胎芯片全部转正”，何庭波的话无疑表示出华为强大的自信，余承东也表示：芯片我们能自己做，系统我们也能自己做。
供应商纷纷“断供”，对华为会造成多大影响呢 ？
近日，我们看到RAM也宣布断供华为，这对华为的影响就比较大了。目前的芯片市场上，包括苹果、高通、三星的芯片都是采用ARM公版架构，当然也包括了华为。
华为已经取得了ARM的永久授权，目前不会有影响，但ARM推出新架构，华为就不再能用了！
由于ARM授权费太贵，而英特尔几乎“闭门不开”，我们国内也在力推RISC-V的新架构，这个架构对于国内的芯片企业来说是一个绝佳的机会，而且RISC-V免费开源，仅仅四年的时间其会员已经涨到235家。
若海思能够结合RISC-V架构，或许不仅能在芯片上摆脱西方依赖，更能开创出一条有别于ARM和英特尔的道路。
全球AI芯片企业华为排12，中微5纳米工艺，我国芯片到底如何？
我国在芯片半导体的新闻，可以说是层出不穷，先是ARM在中国成立合资公司，又是中微掌握5纳米工艺的刻蚀机，华为在全球AI芯片企业排名12 --- 感觉我国的芯片半导体实力，很强大。
我国的芯片领域，到底是处于什么水平？
市场调研和咨询公司Compass Tntelligence，在调查研究了全球100多家公司中，华为排名第12名。其中排在前两位的是大名鼎鼎的英伟达和英特尔都是本身在CPU和GPU领域的领先者和统治者。
此外IBM、ARM、AMD、高通、苹果等科技公司纷纷上榜，除了华为最近声名鹊起的寒武纪也在榜上。
那么这个榜单是怎么排的呢？
在 Compass Tntelligence目录中对AI芯片定义是，包含CPU GPU NPU RISO等单元
上榜标准除了产品实力，商用案例，市场覆盖率还有公司的收入和AI收入，增长潜力，市场宽度和品牌实力等。所以在这个榜单上至少说明AI产品都是获得市场认可，技术至少都是一流的，然后英伟达和英特尔本身实力强和体量大所以排名高也正常。
华为在技术积累上还无法和以上这些企业相比，华为能上榜最重要的产品就是麒麟970处理器和即将亮相麒麟980
麒麟处理器的CPU和GPU都是ARM和它旗下企业的IP授权生产的 --- 使用ARM的架构自己进行芯片设计在台积电代工生产，那么麒麟处理器中的NPU（人工智能芯片）是谁的IP呢，华为海思半导体使用寒武纪的智能芯片IP，进行设计的。
在它们合作推出的麒麟970芯片上也证明了，中国的AI技术是不落后与外国水平的，只是像寒武纪因为体量小市场影响力不够等原因，排名略低。
中微5纳米芯片工艺是什么 ？
芯片设计出来是要代工厂来生产的，芯片制造工艺不行，再好的芯片设计也是白搭，世界上最好的芯片代工工艺排在首位的当然是大名鼎鼎的英特尔，此外还有三星和台积电实力也都非常的强，也只有它们这几家有实力和技术代工最先进的芯片工艺。
现在手机最好的芯片供应商高通今年的旗舰处理器骁龙845也只是第二代10纳米制程。
那么中微都掌握了5纳米那不是，碉堡了，领先世界了。
其实不是这样的！
为什么这么强，为什么每年只有它们能推出最先进的芯片代工工艺，那一切都是因为光刻机
世界上最先进的光刻机供应商是荷兰的AMSL供应商，英特尔、三星、台积电、海力士等半导体公司都要向AMSL购买光刻机。
不出意外，明年就会有7纳米制程的手机芯片问世。那么有人问了明年这些半导体公司才能推出7纳米芯片，中国现在就要5纳米工艺了，那不是领先了吗。
其实中微的5纳米是刻蚀机，刻蚀机和AMSL的光刻机是有区别的，光刻机和刻蚀机都是芯片制造不可缺少的机器之一。光刻机是用光将掩膜版上的电路图形“复印”到硅片表面的胶上，在平整的硅片表面构建半导体MOS管和电路基础。那么刻蚀机是做什么的呢，刻蚀机通过化学或者物理的方法，把显影后的电路图永久精准的留在硅片上，把曝光后的光刻胶通过腐蚀等方法把硅片上不需要的部分剥离去掉。
中微LOGO
简单来说，就是光刻机就是把图案印上去，刻蚀机就是把图案部分或者是图案之外的部分去掉，留下想留下的部分。刻蚀机制造要比光刻机容易，中国的光刻机应该还停留在16纳米之前的工艺，据说国产已经有28纳米工艺的光刻机了，不过刻蚀机确实是世界一流的水平。
制造一颗世界一流的芯片是非常复杂的，架构 设计 工艺 等等，中国在一些方面已经取得了重大的成果接近或者达到世界一流的水平，但是在一些关键的光刻机，CPU GPU IP等方面还是差的多。
希望祖国再接再厉，在未来制造出真正的各项技术都是中国的芯片！！！
